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拋釉磚顏色豐厚、色澤明亮，比拋光磚裝修作用更豐厚、比仿古磚光澤更多變、比瓷片更耐污，因為適用于多種裝修場合而越來越深受消費者的喜愛。但因其通明釉與坯體存在膨脹系數區別、熔融溫度區別，以及運用彈性軟質模塊進行拋磨等要素，所以簡單在其外表發作波濤紋等缺點。彈性磨塊小編簡單剖(pou)析了影響拋釉磚外表不平坦的要素(su)以(yi)及處理商品缺點(dian)的要素(su)，期(qi)望能給(gei)同(tong)行供給(gei)一些協助。

1   前語
拋(pao)(pao)釉(you)(you)(you)磚(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)也叫全(quan)拋(pao)(pao)釉(you)(you)(you)磚(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)，是這些年新(xin)興(xing)的(de)一種(zhong)修(xiu)建(jian)陶瓷(ci)商(shang)品(pin)，其(qi)調(diao)集了拋(pao)(pao)光(guang)磚(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)、仿(fang)古磚(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)、瓷(ci)片三種(zhong)商(shang)品(pin)的(de)優勢，是在磚(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)坯外(wai)(wai)表(biao)裝修(xiu)印花(hua)后，施以(yi)通(tong)明釉(you)(you)(you)燒制拋(pao)(pao)光(guang)而成的(de)，因表(biao)層(ceng)通(tong)明釉(you)(you)(you)的(de)折(zhe)射作(zuo)用，其(qi)商(shang)品(pin)兼具(ju)釉(you)(you)(you)面(mian)磚(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)啞色暗光(guang)的(de)含蓄(xu)性(xing)，并有(you)拋(pao)(pao)光(guang)磚(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)的(de)光(guang)澤度(du)、瓷(ci)質(zhi)(zhi)磚(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)的(de)硬(ying)度(du)，處理了半(ban)拋(pao)(pao)磚(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)易藏污(wu)的(de)缺點。一起也擁有(you)仿(fang)古磚(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)的(de)釉(you)(you)(you)面(mian)高仿(fang) 紋路作(zuo)用，以(yi)及瓷(ci)片釉(you)(you)(you)面(mian)豐(feng)厚(hou)的(de)印花(hua)裝修(xiu)作(zuo)用。隨著裝修(xiu)手(shou)法的(de)多元化和技術技術的(de)不斷進步(bu)，其(qi)市場(chang)份額(e)占有(you)率也逐(zhu)步(bu)進步(bu)。但現在出產技術中因拋(pao)(pao)釉(you)(you)(you)磚(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)商(shang)品(pin)外(wai)(wai)表(biao)通(tong)明釉(you)(you)(you)層(ceng)硬(ying)度(du)不及拋(pao)(pao)光(guang)磚(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)，因此(ci)在拋(pao)(pao)光(guang)工序中不能(neng)選用同(tong)拋(pao)(pao)光(guang)磚(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)(zhuan)徹(che)底相同(tong)的(de)硬(ying)質(zhi)(zhi)模塊(kuai)(kuai)進行拋(pao)(pao)磨(mo)，而只能(neng)選用具(ju)彈性(xing)變形的(de)軟質(zhi)(zhi)模塊(kuai)(kuai)進行拋(pao)(pao)磨(mo)，否則會呈現外(wai)(wai)表(biao)劃痕、刮花(hua)等疑問。

2   拋釉磚現有拋光技術缺點
因為選用彈性軟質模塊進行拋光工序出產，在全部拋光進程中的拋削量非常小，如外表通明釉層不平則會呈現拋磨后的水波紋、外表波濤形等缺點。瓷磚外表不平坦，在全體鋪貼運用時，會影響裝修美觀性和全體感。而瓷磚存在波濤形在凸出與凹陷部位會發作不一樣的光線折射，進而使得斑紋立體感減弱，不行一致和諧。
別的，商品在燒制進程中會發作輥棒印，進而影響到磚的平坦度，終究使得拋磨時發作點觸摸、線觸摸而非面觸摸，然后致使軟拋后釉外表高低不平。
 
3   影響拋釉磚不平(ping)坦的要素及處理辦法

3.1壓機工序調整
因(yin)為水波紋(wen)(wen)(wen)的(de)凹(ao)坑在方格紋(wen)(wen)(wen)的(de)經上，選(xuan)用經緯紋(wen)(wen)(wen)底模后可削減(jian)水波紋(wen)(wen)(wen)的(de)深度(du)然后削減(jian)因(yin)輥棒印所(suo)致(zhi)使的(de)外表(biao)拋磨后不平景象。別的(de)，因(yin)為方格紋(wen)(wen)(wen)的(de)筋致(zhi)密度(du)低，致(zhi)使凹(ao)坑，為了(le)削減(jian)筋與格子致(zhi)密度(du)差的(de)疑問，可將壓(ya)機壓(ya)力略微下(xia)降，然后改進外表(biao)平坦度(du)。

3.2釉線工序調整
在拋(pao)釉(you)量較少的情(qing)況下，當通(tong)明釉(you)配方為偏高溫時，會在釉(you)層內發作較多毛(mao)孔，因此無法出(chu)產深色商(shang)品。能夠(gou)采(cai)(cai)納(na)替換低(di)溫通(tong)明釉(you)，并采(cai)(cai)納(na)添(tian)加拋(pao)釉(you)量的辦法加大(da)拋(pao)光壓力，削減毛(mao)孔與(yu)水波紋，添(tian)加磚面平坦度。

3.3釉線工序調整
當窯爐前(qian)溫(wen)(wen)排煙(yan)管粗、抽熱量大、前(qian)溫(wen)(wen)高、正壓小時(shi)，磚(zhuan)氧(yang)化(hua)作用好，側邊針孔少，進(jin)而磚(zhuan)面平坦(tan)度高，拋(pao)光后不易發作波(bo)濤紋。另一(yi)方面，能夠優(you)化(hua)燒成(cheng)(cheng)窯爐燒成(cheng)(cheng)曲線，進(jin)步窯爐前(qian)溫(wen)(wen)，拉長窯爐氧(yang)化(hua)時(shi)刻，下降最(zui)高溫(wen)(wen)度，然后削(xue)減輥棒(bang)印，以進(jin)步磚(zhuan)面平坦(tan)度。

3.4拋光工序調整
替換粗(cu)拋硬質磨(mo)塊(kuai)，加大磨(mo)盤壓力，可(ke)處理(li)水波(bo)紋疑問。但一起需(xu)要添加施釉(you)量(liang)，防止呈現過拋景象。因(yin)為淋釉(you)量(liang)較厚，通明(ming)(ming)釉(you)需(xu)經過兩(liang)次淋釉(you)而(er)成，而(er)且兩(liang)次淋釉(you)進(jin)(jin)程(cheng)(cheng)中有枯(ku)燥過程(cheng)(cheng)，因(yin)此通明(ming)(ming)釉(you)層能夠(gou)(gou)徹底枯(ku)燥，在燒制進(jin)(jin)程(cheng)(cheng)中不(bu)會發(fa)作(zuo)(zuo)裂縫，燒制后經非彈性模塊(kuai)拋磨(mo)后能夠(gou)(gou)確保拋釉(you)磚的外表(biao)平坦度，不(bu)會發(fa)作(zuo)(zuo)波(bo)濤紋。

3.5通明釉配方改進
在(zai)高(gao)溫燒成時(shi)，坯釉(you)(you)(you)(you)中(zhong)(zhong)的(de)(de)有機物氧化會釋(shi)放出氣(qi)體(ti)，如(ru)果在(zai)釉(you)(you)(you)(you)熔(rong)化之(zhi)前氣(qi)體(ti)沒有掃除干凈，釉(you)(you)(you)(you)面就會發作許多毛孔；如(ru)果釉(you)(you)(you)(you)熔(rong)化后，外(wai)表張力(li)過大，也會致使釉(you)(you)(you)(you)面發作水波紋或橘皮(pi)狀，影響美觀(guan)。因此(ci)調(diao)理釉(you)(you)(you)(you)料(liao)配(pei)方使之(zhi)與坯體(ti)膨脹系數相適應，并經過改進(jin)通(tong)明釉(you)(you)(you)(you)層(ceng)的(de)(de)功能(neng)(neng)，然后對進(jin)步瓷磚外(wai)表平坦度(du)是非(fei)常 要的(de)(de)。如(ru)在(zai)通(tong)明釉(you)(you)(you)(you)配(pei)方中(zhong)(zhong)加入微(wei)晶細(xi)粉，或許下降配(pei)方中(zhong)(zhong)熔(rong)劑的(de)(de)含(han)量并進(jin)步氧化鋁的(de)(de)含(han)量，能(neng)(neng)夠調(diao)理釉(you)(you)(you)(you)的(de)(de)始(shi)熔(rong)溫度(du)，便于(yu)氣(qi)體(ti)徹(che)底掃除。

3.6添加維護釉層
添加(jia)一層始熔(rong)點(dian)比通(tong)明釉始熔(rong)點(dian)低(di)的(de)維(wei)護釉后，維(wei)護釉在燒(shao)制(zhi)進程(cheng)中先熔(rong)融，發作玻璃相(xiang)限制(zhi)住磚坯(pi)燒(shao)成進程(cheng)中分(fen)化發作的(de)氣體，使得通(tong)明釉層無法構成針孔及小氣泡等缺點(dian)，進而進步釉面的(de)平坦度。

別的(de)(de)即是添加一層(ceng)(ceng)(ceng)高溫(wen)黏度(du)大(da)的(de)(de)維(wei)護(hu)釉(you)(you)(you)(you)，因(yin)為高溫(wen)下(xia)黏度(du)大(da)，因(yin)此能夠阻撓底(di)層(ceng)(ceng)(ceng)氣體(ti)排出(chu)，然后處理釉(you)(you)(you)(you)面(mian)(mian)(mian)針(zhen)孔凹釉(you)(you)(you)(you)等缺(que)點，并在(zai)淋(lin)維(wei)護(hu)釉(you)(you)(you)(you)后經過(guo)素燒(shao)(shao)(shao)使得磚(zhuan)(zhuan)坯釉(you)(you)(you)(you)面(mian)(mian)(mian)非(fei)常(chang)好地(di)吸收釉(you)(you)(you)(you)料和(he)削(xue)減釉(you)(you)(you)(you)層(ceng)(ceng)(ceng)氣泡(pao)。在(zai)素燒(shao)(shao)(shao)的(de)(de)進(jin)(jin)程(cheng)(cheng)中(zhong)水分有機物揮發(fa)，聯系維(wei)護(hu)釉(you)(you)(you)(you)在(zai)燒(shao)(shao)(shao)制(zhi)進(jin)(jin)程(cheng)(cheng)中(zhong)對底(di)層(ceng)(ceng)(ceng)氣體(ti)的(de)(de)限制(zhi)作(zuo)用，防止(zhi)坯體(ti)氣體(ti)蒸騰(teng)構成氣孔，并下(xia)降坯體(ti)水分，也可(ke)防止(zhi)在(zai)燒(shao)(shao)(shao)成進(jin)(jin)程(cheng)(cheng)中(zhong)發(fa)作(zuo)裂紋乃至炸坯。別的(de)(de)，淋(lin)通明(ming)釉(you)(you)(you)(you)進(jin)(jin)程(cheng)(cheng)中(zhong)磚(zhuan)(zhuan)面(mian)(mian)(mian)臨(lin)釉(you)(you)(you)(you)的(de)(de)吸收更(geng)充沛，也能削(xue)減釉(you)(you)(you)(you)層(ceng)(ceng)(ceng)凹釉(you)(you)(you)(you)，然后處理系列出(chu)產技術安(an)穩性疑問，而且確保釉(you)(you)(you)(you)面(mian)(mian)(mian)的(de)(de)平(ping)坦(tan)，燒(shao)(shao)(shao)制(zhi)后的(de)(de)商品因(yin)為印花層(ceng)(ceng)(ceng)上的(de)(de)維(wei)護(hu)釉(you)(you)(you)(you)層(ceng)(ceng)(ceng)與通明(ming)釉(you)(you)(you)(you)層(ceng)(ceng)(ceng)厚度(du)較厚和(he)平(ping)坦(tan)，因(yin)此能夠選(xuan)用非(fei)彈性模塊進(jin)(jin)行拋(pao)磨，然后確保其外表的(de)(de)超平(ping)緩(huan)鏡面(mian)(mian)(mian)作(zuo)用。

4   定論
拋(pao)釉(you)磚在出(chu)(chu)(chu)產進(jin)程(cheng)中(zhong)影響其外(wai)(wai)表(biao)平(ping)坦度(du)的要素有許多，咱們(men)應聯系實際情況，從細(xi)節出(chu)(chu)(chu)發，全(quan)部(bu)剖析(xi)，找出(chu)(chu)(chu)對(dui)應的要素，然后徹(che)底處理拋(pao)釉(you)磚外(wai)(wai)表(biao)平(ping)坦度(du)的疑問，削減(jian)商(shang)品的缺點，進(jin)步商(shang)品的優(you)等(deng)率，使陶瓷公司出(chu)(chu)(chu)產效(xiao)益最(zui)大化。

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